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首先，全年研究与试验发展（R&D）经费支出39262亿元，比上年增长8.1%，与国内生产总值之比为2.80%，其中基础研究经费2778亿元，比上年增长11.1%，占R&D经费支出比重为7.08%。国家自然科学基金共资助5.88万个项目。截至年末，纳入新序列管理的国家工程研究中心207个，国家发展改革委认定的企业技术中心1921家。国家科技成果转化引导基金累计设立36只子基金，资金总规模624亿元。全年授予发明专利权97.2万件，比上年下降7.0%。专利合作条约（PCT）专利申请受理量[70]7.8万件。截至年末，有效发明专利631.8万件，比上年末增长11.1%。每万人口高价值发明专利拥有量[71]16件。全年商标注册420.6万件，比上年下降12.0%。全年共签订技术合同104万项，技术合同成交金额75734亿元，比上年增长10.8%。我国公民具备科学素质[72]的比例达到16.74%。（见图21）（见表17）
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来自产业链上下游的反馈一致表明，市场需求端正释放出强劲的增长信号，供给侧改革成效初显。
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此外，在郑晓曦看来，光刻机是半导体设备国产化率最低、技术壁垒最高的核心环节，也是产业“卡脖子”关键领域。海外高端光刻机市场被垄断，国产光刻机的突破具备0-1的历史性机遇，一旦实现技术突破，将带来产业链质的飞跃，这也是她坚定布局该赛道的核心原因。
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